Aibo II Dry Asher

Aibo II Dry Asher 支援 Strip、De-scum、Lite Etch 與 Plasma Clean，晶圓尺寸 4"、5"、6"、8"，ICP 13.56 MHz，最大 RF up to 2000 W，Strip Rate >4.5 µm/min @250°C，Temperature 20–260°C，Non-uniformity < ±5%，Uptime ≥95%。Throughput 內容均為 Engineering Estimate。

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