Aibo Dry Asher 系列

Aibo Dry Asher 系列支持光刻胶去除、去残胶、轻微刻蚀与等离子清洁等半导体工艺应用。平台选型需根据晶圆尺寸、腔体配置、产能需求与厂务整合条件进行工程评估。

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如需进一步确认设备、零件、制程应用或服务需求，请提供设备型号、应用条件与当前目标，瀚钧将依资料进行工程评估。